Решение для двустороннего поверхностного шлифования усовершенствованных керамических листов

Модель машины:YHDM580B Высокоточный двухдисковый шлифовальный станок;

Заготовки:Керамическая пластина из нитрида алюминия;

Требование ：Размер удаления 0.17-0.21 мм, плоскостность 0.02 мм, шероховатость Ra 0.6 мкм;

Керамические изделия AlN в основном используются в гибридных схемах высокой плотности, микроволновых силовых устройствах, полупроводниковых силовых устройствах, силовых электронных устройствах, оптоэлектронных компонентах, полупроводниковом охлаждении и других продуктах в качестве высокопроизводительных материалов подложки и упаковочных материалов. - Подложка радиатора, светодиодный корпус. Подложка, полупроводниковая подложка, подложка тонкопленочной схемы, подложка силового резистора. Оптоэлектроника. Диэлектрические слои в оптических носителях информации. Электронные подложки, носители микросхем, для которых важна высокая теплопроводность.